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氧化鈮111[1]
  • 氧化鈮111[1]

氧化鈮111[1]


PVD鍍膜一般指在光學(xué)零件表面鍍膜的目的是為了達到減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求. 光學(xué)鍍膜料主要用途分為復(fù)合膜,彩色膜,增透膜,透紫外膜,激光裝置濾光片,保護膜,透明導(dǎo)電膜,變色膜,優(yōu)良的寬帶增透膜,磁性薄膜,可見光區(qū)增透膜,紅外增透膜,分光膜,多層膜,高反射膜,電阻膜,熱反射膜,冷光燈、冷光碗,各種鏡片鍍膜等。光學(xué)鍍膜作用廣泛,膜料品種多樣,(塔基特靶材)為各類鍍膜企業(yè)提供各種鍍膜材料。

主要有靶材:硅靶、鈮靶、錫靶、鈦靶、銦錫靶、氧化鈮靶。


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